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二次離子質(zhì)譜儀是利用高能離子束轟擊樣品產(chǎn)生二次離子的質(zhì)譜儀。主要包括一次離子源、進(jìn)樣室、質(zhì)量分析儀、真空系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)等部分，絕緣樣品還配有電荷補(bǔ)償電子中和槍，根據(jù)分析目的不同，還有不同的離子源，如氣體放源（O,Ar,Xe)，表面電離源（如Cs)，熱隙源如C60，以及液態(tài)金屬和團(tuán)簇源（Bin,Aun,Ga）等。二次離子質(zhì)譜儀原理的基本特征如下：
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